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LA310k DeepUVマスクアライナー

MaskAligner LA310kマスクアライナー

la310k

装置の概要


本装置は、半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。波長選択フィルターを複数枚内蔵可能な高性能インテグレータレンズ方式のDeepUV光源装置を搭載し、波長域λ=254~500nmの遠紫外域の照射を実現しています。また同軸落射照明付きの1~6.3×ズーム式実体顕微鏡は接眼/対物レンズの組合せで7.5~425×の広倍率範囲となります。シンプルな構成でカスタマイズ性にも優れています。

仕 様


◎露光方式 1:1(等倍)コンタクト露光

◎適応試料 サイズ最大φ4インチ (露光エリアはUV光源によって決まります) 厚さ最大2mm
   試料台の交換により各種サイズ・形状(角形試料など)に対応します。

◎適応マスク サイズ最大□5インチ厚さ0.06インチまたは0.09インチ

◎ランプハウス 光学形式インテグレータレンズ、ダイクロイック楕円ミラー方式(レンズ材料は全て石英製)

 使用ランプ水銀キセノンランプ200W 照射距離約80mm
 有効露光範囲□30mm 波長域λ=254~500nm 放射強度約80mW/c㎡以上(at 365nm)
 照度均一度±5%以下露光量設定タイマー式(積算光量計制御はオプション)
 複数枚のフィルターを内蔵し外部から切り替えて使用できます。(各フィルターはオプション)

◎顕微鏡 ズーム式実体顕微鏡ニコン製SMZ800 接眼レンズC-W20×(2個) 対物倍率Plan 1×
 フォーカスマウントC-FMC 同軸落射照明装置P-ICI2 UVカットフィルター(Y44)
 総合倍率30~189× レンズ組合せは変更できます。(双眼双対物2視野顕微鏡はオプション)

◎アライメント方式 顕微鏡による目視アライメント(マスク位置固定・試料移動型アライメント)

◎アライメントステージ XYZ軸微粗動ハンドル操作、θ軸微動ハンドル操作
 Z軸コンタクト・ギャップ微調整レバー操作±125μm(エアコンタクト機構はオプション)
 レベル(水平)調整球面摺動機構真空ロック可能

◎マスク架台 ヒンジ開閉式

◎観察位置ステージ XY軸ストローク±20mm 手動レバー方式(観察位置ステージはオプションです)

◎寸法/重量 670(H)×460(W)×540(D)mm以内/80Kg 以下

◎ユーティリティ
   電源 AC100V 10A 以下(UV光源装置込み)
   真空 600mmHg以上
   (オプションのエアコンタクト機構使用時はドライエアまたは窒素5Kg/c㎡程度も必要となります)

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