マニュアル両面同時露光アライナー BS320 【生産終了につきBS425をご参照下さい】
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製品概要
BS320は研究開発から小中ロット製造用に開発された両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法(※)を採用するため、シンプルで応用が利くローコストなモデルです。またオプションで一次露光時の試料位置合わせが容易にできる「L型位置決めガイド」や多点観察の容易な「顕微鏡XYステージ」を搭載することができます。※(二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります)
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特徴
・デザインルール3μm
・ウェハ両面に同時露光(一次露光のみ)
・φ4インチウェハ対応
・ローコスト
・コンパクト設計
・フットスイッチにより簡単に操作できる上マスク開閉
・手置き式のため規格外形状試料への対応が容易
・アライメントマークの多点観察が容易なXY軸顕微鏡ステージ搭載(オプション)
・ウェハ位置決めガイド搭載(オプション)
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仕様
- 適用試料
最大φ4インチ
ご使用サイズ( ± mm× ± mm) t= μm
- 適用マスク
最大□5インチ
ご使用サイズ( ± mm× ± mm) t= mm
厚さは注文時に0.06(≒1.5mm)、0.09(≒2.3mm)、0.12(≒3mm)インチから選択
- マスク・ウェハサイズ変更
上下マスクホルダーの交換によります(一次:両面同時露光時)
(オプションのL型ウェハガイド装備時はガイドも交換)
試料台の交換によります(二次:片面露光時)
- 露光ランプ仕様及び露光性能
光学形式:コリメータレンズ方式
有効露光範囲 :φ120mm
照度均一度 :±15%
主波長領域 :λ=350~450nm
使用ランプ :超高圧Hgランプ500W ウシオ製 USH-500D
放射強度 :上側7mW/c㎡以上、下側6 mW/c㎡以上(at365nm)ウシオUIT-101にて測定
ランプ冷却方式 :強制空冷
露光解像度 :ライン&スペース3μm
露光できる最小線幅はレジスト・マスク・ウェハ・露光前工程/後工程等の諸条件により異なることがあります。
- 露光方式 :コンタクト方式(コンタクト圧可変式)
ウェハ上面-上側マスクパターン面間はプロキシミティ露光も可能
ギャップ測長器(分解能1μm)はオプション
- 露光量設定 :上下独立タイマー設定
設定時間0.3~99.9秒(分解能0.1秒)
積算光量計制御はオプション
- アライメント方式
双対物2視野顕微鏡による上側マスクパターンと下側マスクパターンまたはウェハ上面
同時観察によるマニュアルアライメント。上側マスク位置基準(固定)式。
- アライメント顕微鏡 双眼双対物顕微鏡(標準にて下記3種類の倍率切替可能)
総合倍率 |
92.5 |
185 |
370 |
対物レンズ倍率 |
1.85 |
接眼レンズ倍率 |
10 |
拡大レンズ倍率 |
5 |
10 |
20 |
視野径 (mm) |
φ1.8 |
φ0.9 |
φ0.45 |
Cマウント結像倍率 |
9.25 |
18.5 |
37 |
作動距離WD (mm) |
約 51 |
・対物レンズ間距離 8~90mm
・観察照明 ハロゲンランプ+ファイバーライトガイドによる同軸落射式照明
UVカットフィルター:イエローフィルターを照明光源に取付け
※観察照明による不要露光防止のため
※上下マスクのアライメント時には下側ランプハウスからの透過光照明も利用可能。
・CCDカメラ Cマウント(標準装備)により接続可能
CCDカメラ、モニター等はオプション
・ナノテック特別仕様で長作動距離(WD≒51mm)になっています。
- マスクアライメントステージ
X軸(横) :±3mm手動(微動・粗動調整ダイアル)
Y軸(縦) :±3mm手動(微動・粗動調整ダイアル)
Z軸(上下) :0~1mmエア駆動方式(コンタクト圧調整レギュレータ付)
:0~4mm手動メカ駆動方式
:ギャップ測長器はオプション
θ軸 :±3゜手動(微動)
平行アジャスト :球面摺動機構真空ロック
N2パージ :露光部にN2パージ 流量計はオプション
- 上側マスク駆動ステージ
駆動方式 :モーター駆動による前後スライド方式
繰返位置決め精度 :XYZ方向位置精度±1.5μm以内/100回
- 顕微鏡移動方式 :自在スイングアーム方式
Z軸(FOCUS調整) :±3mm手動
露光時退避 :手動
☆オプションにて観察位置移動XYステージが搭載可能
X軸(横) :±10mm手動
Y軸(縦) :±10mm手動
- ウェハ位置決め :手動
一次露光時 :手置き
又はオプションのL型ガイドによる外形突き当て式位置決め。
突き当て基準位置調整可能。(両面同時露光)
二次露光以降 :下マスクホルダを試料台に交換しウェハを真空吸着。
双眼顕微鏡により上側マスクパターンと試料上面のアライメント後、ウェハ上面の露光。
(片面づつの露光となります)
☆二次以降の露光が必要な場合、オプションの「試料台」が必要となります。
☆上下マスクホルダは使用マスクに合わせたサイズで1セット標準添付します。
☆片面露光時に必要な試料台は別途オプションとなります。
☆二次以降も両面同時に露光できる二次合わせステージ付き仕様、BS320uもあります。
- 装置寸法 :1460(H)×1060(W)×780(D)mm
装置重量 :320㎏以下
- ユーティリティ
真空 :600mmHg以上 真空ポンプはオプション
ドライエア :5㎏/c㎡以上
窒素 :1㎏/c㎡程度(N2パージが必要な場合のみ)
電源 :AC100V 30A
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保 証
検収後1年間(稼働8時間以内/日として)を保証期間とします。
装置の取扱い、保守を正しくおこなっている状態で故障があった場合、無償にて修理いたします。但し購入品については購入品メーカーの保証範囲とします。
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その他・備考
①本仕様は今後のお打ち合わせにより変更されることがあります。
②最終のお見積りは仕様細部の決定後提出となります。
③製作・評価時に御社試料サンプルが必要となることがあります。
④検収仕様・納品条件等は別途お打ち合わせとなります。
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※仕様は改良のため予告なく変更することがあります。
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