BA420　斜光2灯裏面観察アライナー

斜光2灯裏面観察アライナー　BA420

改良のため仕様・意匠は変更されることがあります

試料裏面アライメントシステムの概要

　最初に試料の無い状態で下側からマスクのアライメントマークを観察し画像を取り込み（メモリ）します。次に試料の予め形成された面を下に、新規露光面である面を上に向けて試料台にセットします。試料裏面のアライメントマークを裏面から観察し、このライブ画像とメモリされたマスクのアライメントマークを同時に表示し、これらを一致させるようにアライメントします。その後、試料−マスクをコンタクトさせて露光します。
　搭載される裏面観察用双対物2視野顕微鏡は左右対物レンズを最小18～最大80ｍｍまで調整可能です。（対応する開口部付き試料台が必要となります）
　試料の表裏で製造プロセスの異なる従来の両面同時露光装置で対応不可能なデバイスに対応できます。

特徴

・試料垂直面（側面）露光を可能にする高精度高出力傾斜2灯式UV光源システム
・試料裏面観察アライメントシステム搭載で逐次両面露光
・各種形状試料に対応
・上下独立４-CCDカメラ（４視野）顕微鏡でモニタ観察アライメント

仕様

 ①適用試料 最大φ4インチ 貴社試料サイズに合わせます（形状サンプルを貸与願います）

• 試料吸着真空溝はご希望形状をご連絡下さい。（ご注文時）

②適用マスク 最大□5インチ

③マスク・ウェハサイズ変更

• マスクサイズ変更　→　マスクホルダーの交換によります
  ウェハサイズ交換　→　試料台の交換によります

④露光ランプ仕様及び露光性能

• 露光方式 上側2灯（左右対称）
  鉛直より左右35度（固定）傾斜下向き照射（角度変更は別途ご相談）
  光学形式 インテグレータレンズ（フライアイレンズ）方式
  有効露光範囲 φ100ｍｍ
  照度均一度 ±5％以下（垂直照射状態にて）
  主波長領域 λ＝365～436nm
  使用ランプ 超高圧Ｈｇランプ750W
  放射強度 （単体）約80ｍＷ／ｃ㎡以上　（at 365nm）ウシオUIT-101にて測定
  ランプ冷却方式 強制空冷
  露光解像度 ライン＆スペース３μｍ（参考値）
  露光できる最小線幅はレジスト・マスク・ウェハ・露光前工程／後工程等の諸条件により異なることがあります。
  （本装置単体では最終結果の保証はできません）

⑤露光方式 コンタクト方式（コンタクト圧可変式）およびプロキシミティ

• ※ギャップ測長器（分解能１μｍ）を装備

⑥露光量設定 左右独立タイマー設定

• 設定時間0.3～99.9秒（分解能0.1秒）

〔ランプハウスの待避機構〕

• 左右ランプハウスはマスク取付時（マスクホルダ開時）に邪魔にならないような待避機構を持っています。
  待避方法は回転（スイング）移動で左右ランプハウスが同期リンク機構を装備しています。

⑦アライメント方式

〔表面観察〕

• 双対物２視野CCD顕微鏡（上から下を観察）による上側マスクパターンとウェハ上面同時観察によるマニュアルアライメント。
  マスク位置基準（固定）-ウェハ移動式アライメント。

〔裏面観察〕

• 双対物２視野CCD顕微鏡（下から上を観察）による上側マスクパターン（試料装填前に撮り込んだメモリ画像）とウェハ裏面（ライブ画像）同時観察によるマニュアルアライメント。マスク位置基準（固定）-ウェハ移動式アライメント。
• ※上側顕微鏡と下側顕微鏡の光軸一致機能はありません。（独立しています）

⑧アライメント顕微鏡

・上側顕微鏡（通常の表面露光マスクアライナー）

• 観察方式 双対物２視野CCD&モニタ観察顕微鏡
  マスクパターン面およびウェハ表面を同時に観察します
  総合倍率 9インチ時 約100倍 モニタサイズによる
  光学レンズ倍率 4倍
  WD（作動距離） mm 40 顕微鏡端面から
  焦点深度 μm 100
  分解能 μm 約 4
  視野範囲 約 ｍｍ 横1.6（2分割時0.8） × 縦1.2※左右CCDの映像を1モニタに映すため横の視野は半分になります
  マウント ペティマウント φ17カメラ専用マウント
  照明方式 高輝度赤色LEDによる同軸落射照明
• ＣＣＤカメラ 1/2インチ 41万画素白黒CCDカメラ ２台
  Ｚ軸(FOCUS調整) 全体 ±3mm 、片側独立 ±1.5mm （手動）
  対物レンズ間距離 20～80ｍｍ X軸（横）方向
  前後位置調整 左右独立 ±3ｍｍ 手動
  観察照明調整 左右独立照度調整
  顕微鏡退避 手動　露光時後方へ待避 ストローク約200ｍｍ
  観察時位置 基準位置（アライメントマーク観察位置：任意に一箇所指定可能）とフリー移動を切り替え可能
• 上側顕微鏡の操作系（下側顕微鏡は上側顕微鏡の操作軸に加え全体フォーカス軸を持ちます）

・下側顕微鏡（裏面観察アライナー）

• 観察方式 双対物２視野CCD&モニタ観察顕微鏡
  マスクパターン面またはウェハ裏面を観察します
  使用顕微鏡 ロング顕微鏡 カスタム仕様 （2台）
  総合倍率 9インチ時 約100倍 モニタサイズによる
  光学レンズ倍率 4倍
  WD（作動距離） mm 13 顕微鏡端面から
  焦点深度 μm 100
  分解能 μm 約 4
  視野範囲 約 ｍｍ 横1.6（2分割時0.8） × 縦1.2※左右CCDの映像を1モニタに映すため横の視野は半分になります
  マウント Ｃマウント
  照明方式 高輝度赤色LEDによる同軸落射照明
• ＣＣＤカメラ 1/2インチ 41万画素白黒CCDカメラ ２台
  Ｚ軸(FOCUS調整) 全体 ±3mm 、片側独立 ±1.5mm （手動）
  対物レンズ間距離 18～80ｍｍ X軸（横）方向（試料台開口部により制限あり）
  前後位置調整 左右独立 ±3ｍｍ 手動
  ◎ 光軸はマスク取付面に垂直
  ◎ フォーカス調整軸もマスク取付面に垂直
• 画像処理装置 画像メモリ付きセンターワイプ（上側/下側顕微鏡切換式）
  モニタ ９インチ モノクロ 高解像度
  観察照明調整 左右独立照度調整

⑨アライメントステージ

• Ｘ軸ストローク ±5ｍｍ 手動 微粗動ツマミ
  Ｙ軸ストローク ±5ｍｍ 手動 微粗動ツマミ
  Ｚ軸ストローク粗動 0～5ｍｍ エア駆動　上昇端高さはダイアル設定
  コンタクト圧調整も可能
  上昇/降下スピードはエアスピードコントローラーにて設定可能
  Ｚ軸ストローク微動 0～250μm ネジ送り　微動レバー 最小目盛 5μｍ （目安）
  Ｚ軸位置測定 ギャップ測長器を装備（精密なギャップ操作が可能）
  分解能１μｍ　表示カウントリセット機能
  θ軸ストローク ±5゜ 手動　微動
  レベル調整 ３点ネジによる角度調整（アオリ機構）
  試料固定方式 真空吸着固定
  試料位置決め 試料台上に手置き
  オプションにて試料台上に試料外形目安線を入れることができます。
  試料台開口部 試料裏面観察用の穴。ユーザーアライメントマーク位置による。
  試料台形状、開口部他 別途お打ち合わせ。

  例）片側φ10ｍｍ程度 （ウェハ左右アライメントマーク付近に２箇所）

  （左右間隔最小18mm程度）この開口部が観察範囲となります。
  試料装填方法 試料装填のためにステージを前後スライド可能
  ステージ移動操作によりマスク観察位置に影響を与えない構造。
  マスク装填方法 マスク装填のためにマスクホルダをヒンジ開閉できます。（手動）

⑩システム構成 本体（デスク一体型）

• 制御ボックス、UVランプハウス（斜光２灯）、UV光源電源装置（2基）、アライメント観察系（上下）、
  画像処理装置（モニタ×1、CCD×4、CCU×4、フリーズワイプ装置×1）、ギャップ測長器。

〔オプション〕 

• 真空ポンプ
  空圧ポンプ（フィルター等補器類）

⑪装置寸法・重量

• 1600×1230×800 mm 程度 (H×W×D 設置必要寸法含む) 
• 320㎏以下

⑫環境条件

• 温度　22±3℃
• 湿度　20～80％　ただし結露しないこと

⑬ユーティリティ

• 真空 600mmHg以上 接続口はφ6mmナイロンチューブ用です
  ドライエア 5Kg/c㎡以上 接続口はφ6mmナイロンチューブ用です
  電源 ＡＣ100Ｖ 35Ａ（合計） 3口以上必要

  ※装置設置場所ユーティリティの一次側の配管・配線は貴社にて設備してください。

※仕様は改良のため予告なく変更することがあります。

機種別カタログ（PDFファイル）は準備中です。