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BS430 試料側面/裏面露光 ３灯式両面同時アライナー

３灯式両面露光機　BS430

bs430

製品概要

BS430は研究開発から小中ロット製造用に開発された斜光3灯式両面同時露光式マスクアライナーです。本装置では特別に設計された二次合わせステージを採用するため、二次露光以降も両面同時に露光可能で効率の良い作業ができます。

特徴

試料側面露光を可能にする斜光3灯投射
プロセス処理時間を短縮できる両面同時露光
インテグレータレンズ搭載の高性能ランプハウス（3機）でデザインルール３μｍ（参考値）
二次合わせステージ搭載で二次露光以降もウェハ両面に同時露光
φ4インチまでのユーザー試料形状に対応
フットスイッチにより簡単に操作できる上マスク開閉
手置き式のため規格外形状試料への対応が容易
アライメントマークの多点観察が容易なCCD顕微鏡

仕様

  • 適用試料 ：最大φ4インチ（=φ100mm） 厚み700～1000μm

    納品時対応試料サイズ
    試料サイズに合わせた二次合わせステージ用クランパ（爪）を作成いたします。

  • 適用マスク ：最大□5インチ（=□127mm） t=2.3mm（=0.09インチ） 1種類

  • マスク・ウェハサイズ変更

    マスクサイズ変更　→　上マスクホルダーおよび二次合わせステージの交換による
    ウェハサイズ交換　→　ウェハクランパ（ツメ）の交換による

  • 露光ランプ仕様及び露光性能

    露光方式 ：上側2灯は鉛直より左右対称 24度（1種類固定）の傾斜で下向き照射
    下側1灯垂直上向き照射
    光学形式 ：インテグレータ方式
    有効露光範囲 ：φ105ｍｍ
    照射距離 ：330mm（設計値）
    照度均一度 ：±5％
    主波長領域 ：λ＝365～436nm
    使用ランプ ：超高圧Ｈｇランプ500Ｗ ウシオ電機製 USH-500D
    放射強度 ：約40ｍＷ／ｃ㎡以上（at 365nm）ウシオUIT-101
    ランプ冷却方式 ：強制空冷
    露光解像度 ：ライン＆スペース３μｍ（参考値）

    露光できる最小線幅はレジスト・マスク・ウェハ・露光前工程／後工程等の諸条件により異なることがあります。（本装置単体での保証ではありません）

  • 露光方式 ：コンタクト方式（コンタクト圧可変式）

    ウェハ上面のみプロキシミティ露光が可能。裏面はコンタクト露光のみ
    ギャップ測長器（分解能１μｍ）はオプション

  • 露光量設定 ：上下3灯独立タイマー設定

    設定時間0.3～99.9秒（分解能0.1秒）
    積算光量計制御はオプション

  • アライメント方式

    双対物２視野顕微鏡による上側マスクパターンと下側マスクパターンまたはウェハ上面同時観察によるマニュアルアライメント。上側マスク位置基準（固定）式。

  • アライメント顕微鏡 双眼双対物CCD&モニタ観察専用顕微鏡

    顕微鏡は株式会社 清和光学製作所 PBL-3×-LED-TS カスタムメイド（2台）

    1. 総合倍率 モニタサイズによる

    2. 光学レンズ倍率 3倍 倒立正像

    3. WD（作動距離） 36.5±1mm

    4. 焦点深度 約200μｍ

    5. 分解能 約4μｍ

    6. 視野範囲 ｍｍ 縦1.63 × 横2.18（分割表示時は横1.09）

    7. マウント φ17カメラ専用マウント

    8. 観察照明 ：LEDによる同軸落射式照明

      上下マスクのアライメント時には下側ランプハウスからの光

      （不要露光防止フィルター通過済）を透過照明として利用可能。

    9. ＣＣＤカメラ ：1/2インチ41万画素 モノクロCCDカメラ

    10. モニタ ：14インチモノクロモニタ ソニー製PVM-146J

    11. ワイプ装置（2CCD映像→1モニタ出力）

    12. 顕微鏡露光時退避 ：リニアガイド直動方式 手動

      前後ストローク 露光時待避位置まで後方へ約200ｍｍ

    13. 対物レンズ間距離 ：20～80ｍｍ X軸（横）方向

      前後位置調整 ：左右独立 ±3ｍｍ 手動

    14. Ｚ軸(FOCUS調整) ：±３ｍｍ 手動

    15. 顕微鏡観察位置ステージ 顕微鏡全体をXY軸方向に±15mm程度移動可能。

      センタークリックストップ

    『顕微鏡操作部』

    （正面図）
    bs430_scope

    （上面図）
    bs430_scope2

  • マスクアライメントステージ

    Ｘ軸（横） ：±３ｍｍ手動（微動・粗動調整ダイアル）
    Ｙ軸（縦） ：±３ｍｍ手動（微動・粗動調整ダイアル）
    Ｚ軸（上下） ：０～１ｍｍエア駆動方式（コンタクト圧調整レギュレータ付）
    ：０～４ｍｍ手動メカ駆動方式（微動調整付き）
    （独）ハイデンハイン社製ギャップ測長器はオプション
    θ軸 ：±３゜手動（微動）
    平行アジャスト ：球面摺動機構真空ロック
    Ｎ２パージ ：露光部にＮ２パージ 流量計はオプション

  • 上側マスク駆動ステージ

    駆動方式 ：モーター駆動による前後スライド方式
    繰返位置決め精度 ：ＸＹＺ方向位置精度±1.5μm以内／100回（環境変化無し時）

  • 二次合わせステージ

    Ｘ軸（横） ：±1.5ｍｍ 手動（微動調整ダイアル）
    Ｙ軸（縦） ：±4ｍｍ 手動（微動調整ダイアル） 注意
    θ軸 ：最大±2.5゜程度 手動（微動） 注意：試料サイズによる
    【制限事項】試料の横幅によってθ軸の移動範囲は変化します。

  • ウェハ位置決め ：一次露光、二次露光時ともに手置き

    二次露光時操作方法

    下マスクホルダに設置された二次合わせステージにより試料左右側面をクランプ。
    顕微鏡により上側マスクパターンと試料上面のアライメント後、ウェハ両面を露光。
    上下マスクホルダは使用マスクに合わせたサイズで１セット標準添付します。
    仕様書末尾の《二次合わせステージ使用制限事項》をご参照ください。

  • 装置寸法 ：1900×1250×900 mm (H×W×D) 突起部含まず

    モニタ台、ランプ電源装置は別途。
    ※モニタ台は本装置に含まれません。別途ご用意下さい。

    【接地に必要なスペース】

    メインテナンススペースとして装置後部に人ひとりが座り作業可能な空間（60cm程度）をご用意下さい。装置横から後部へ回り込める程度の隙間を空けて下さい。

  • 装置重量 ：400㎏以下

ユーティリティ

真空 ：600mmHg以上　真空ポンプはオプション
ドライエア ：５㎏／ｃ㎡以上
窒素 ：１㎏／ｃ㎡程度（Ｎ２パージが必要な場合のみ）
電源 ：AC100V 45A

保　　証

検収後１年間（稼働８時間以内／日として）を保証期間とします。
装置の取扱い、保守を正しくおこなっている状態で故障があった場合、無償にて修理いたします。
但し購入品については購入品メーカーの保証範囲とします。

その他・備考

本仕様は今後のお打ち合わせにより変更されることがあります。
最終のお見積りは仕様細部の決定後提出となります。
製作・評価時に御社試料サンプルが必要となります。ご貸与願います。
検収仕様等は当社検収チェックリストによります。

特殊仕様・特記事項

《二次合わせステージ使用制限事項》
使用できる試料の厚みは250μm以上1000μm以下です。
クランパ（爪）のサイズ・形状はユーザー試料形状に合わせて製作いたします。
試料は下マスク上に載っていますのでアライメント時に試料裏面と下マスクパターンが摺動します。ご了承下さい。

二次アライメントステージと下マスクホルダは一体になっています。そのためマスクサイズを変更する場合、二次合わせステージごと交換となります。試料サイズによらず使用マスクサイズはなるべく１種類にし た方が便利です。

その他の工場オプション

漏電ブレーカー（30mA以下）
上マスク駆動モーター用過電流ブレーカー
本体塗装色 標準はアイボリー