研究室向け簡易マスク作製機
1/5縮小露光フォトマスク作製機
MM605
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(改良のため仕様・意匠は変更されることがあります)
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各種半導体・MEMS微小構造物製作のためにはフォトマスクが欠かせません。特に大学・研究所においては多種のマスクが必要となります。本装置は研究室レベルで簡単にフォトマスクを作製するための装置です。お手持ちのグラフィックソフトやCADシステム等でプリントした図面をOHPフィルムにコピーしマスク原版として使用します。
MM605では特別に設計された光学系でマスク原版を高精度に1/5縮小投影し、エマルジョンマスクを作ります。今まで外部委託に頼っていたマスク製作をお手元で手軽に安価で作る事ができます。改変の多い研究には特にお勧めです。デザインも縦型スタイルで設置スペースをとりません。
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仕様
縮小レンズ部
- 倍 率 0.2倍
撮像寸法 59.4×59.4mm
視野寸法 297×297mm
物体距離 1195.5mm
物体間距離 1455.5mm
実行F値 (像側) 5.487(物側) 27.317
分 解 能 (像側) 3.017μm
(λ=550nm) (物側) 15.024μm
周辺光量 95.19%
TV dist -0.0263%
照明部
- 蛍 光 灯 30w 3本
光 調 整 可
光 強 度 (max) 1215Lx ~ (min) 749Lx
光 分 布 1.004%
露光タイマー
電 源
外形寸法
重 量
※仕様は改良のため予告なく変更することがあります。
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