製品情報 > 片面アライナー

マスクアライナー ES410 φ4インチウェハ、□5インチマスク対応機、ローコスト

MaskAligner ES410マスクアライナー

写真はセットアップ例

仕様書ダウンロード ES410仕様書初版

概要

ES410は必要十分なスペックを満足するマニュアルマスクアライナーです。ご要望に合わせたカスタマイズが可能で将来のアップグレードや初期導入コスト削減に有利です。半導体デバイス製作等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において各種パターン露光にご活用いただけます。シンプルな構成で多方面で応用が利く最もベーシック、ローコストなモデルです。

マスクアライナーの3つの主要構成要素（ランプハウス、アライメントステージ、顕微鏡）をカスタマイズ可能です。

特徴

◆ コリメータレンズ方式 250Wランプハウス

◆ ズーム式実体顕微鏡装備。

◆ 高精度マニュアルＸＹＺθ軸アライメントステージ。

◆ 球面摺動式レベル調整機構。

◆ 最大φ４インチウェハ対応。（有効露光エリア 約φ80ｍｍ）

◆ 顕微鏡とUV光源露光の切り替えが便利なスイング方式支持。

◆ デザインルール2～3μm。

◆ コンパクト、ローコスト。

《オプション》

◆ マスクと試料間のギャップ設定が正確にできるギャップ測長センサー＆表示器。

◆ マスクと試料の密着性を高める試料吹上コンタクト機能。

◆ 真空ポンプ

 

仕様

  • 形式　等倍片面露光式マスクアライメント装置

  • 型名　ES410

  • 露光方式　１：１等倍露光、 コンタクトおよびプロキシミティ（手動ダイヤル式）

  • 適応試料　サイズ 最大 φ４インチ（露光エリアφ80mm）、t=2mm程度
    SEMI、JEITA 規格ウェハなど。各サイズとも試料台交換にて対応。

  • 適応マスク　サイズ 最大 □5インチ（127mm）、t=0.09インチ（3mm）
    ガラスサブストレート規格マスクなど。各サイズともマスクホルダ交換にて対応。

  • マスクアライメントステージ（マスク固定、ウェハ移動）
    Ｘ軸、Ｙ軸　微動・粗動 ハンドル
    Ｚ軸　粗動 ダイヤル、微動 微動レバー
    Ｚ軸位置測定　測長器 分解能１μｍ（オプション）
    θ軸　微動
    レベル調整　球面摺動方式  手動　真空吸着固定

  • UV光源
    光学形式　コリメータレンズ式
    有効露光範囲　約φ80ｍｍ
    照度均一度　±10％以内
    主波長　λ＝365､405､436nm
    使用ランプ超高圧　Hgランプ250Ｗ
    放射強度　約６ｍＷ／ｃ㎡以上（at 365nm）
    露光解像度　ライン＆スペース 2～3μｍ程度
    露光できる最小線幅はご使用になるレジスト、マスク、ウェハ、露光前後工程等の諸条件により異なる場合があります。
    露光量設定　タイマー設定

  • 顕微鏡　ズーム式実体顕微鏡
    総合倍率　7～45倍 　* 接眼レンズの交換、補助対物レンズの付加にて変更可能
    視野範囲　φ8mm～φ5.1mm
    観察照明　150W ハロゲン光源＋リングファイバー照明

  • 制御
    露光量設定　UV光源電源装置の内蔵タイマーによる時間設定
    真空制御　マスク、試料、球面摺動部の真空ロックは手動ハンドバルブ
    空圧制御　オプションの試料吹上コンタクト機能付きの場合は電磁バルブ制御

  • 寸法、重量　700(H)×460(W)×540(D)mm * 突起部含まず、約100Kg

  • ユーティリティ
    電源　AC100V  10A  MAX.
    真空　26.6 kPa 以上　35リットル/分 以上　* 真空ポンプ（オプション）
    ドライエア 　不要。
    但しオプションの試料吹上コンタクト機能付きではクリーンドライエアまたは窒素
    0.1 MPa以上

外観図