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適用試料 最大φ３インチ（□２インチ）
ご使用サイズ（ φ ± ｍｍ） t= μｍ
ご使用サイズ（ ± ｍｍ× ± ｍｍ） t= μｍ
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適用マスク 最大 □４インチ
ご使用サイズ（ ± ｍｍ× ± ｍｍ） t= mm
厚さは注文時に0.06、0.09、0.12インチから選択
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マスク・ウェハサイズ変更
マスクサイズ変更
→ 上マスクホルダー交換および二次合わせステージの交換による
ウェハサイズ交換
→ ウェハクランパおよびウェハガイドの交換による片面露光時は試料台の交換となります
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露光ランプ仕様及び露光性能
有効露光範囲 ：φ120ｍｍ
照度均一度 ：±15％
主波長領域 ：λ＝350～450nm
使用ランプ ：超高圧Ｈｇランプ500Ｗ
放射強度 ：上側7mW/c㎡以上、下側6 mW/c㎡以上（at365nm）ウシオUIT-101にて測定
ランプ冷却方式 ：強制空冷
露光解像度 ：ライン＆スペース３μｍ
露光できる最小線幅はレジスト・マスク・ウェハ・露光前工程／後工程等の諸条件により異なることがあります。
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露光方式 ：コンタクト方式（コンタクト圧可変式）
ウェハ上面のみプロキシミティ露光が可能。裏面はコンタクト露光のみギャップ測長器（分解能１μｍ）付属
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露光量設定 ：上下独立タイマー設定
設定時間0.3～99.9秒（分解能0.1秒）
積算光量計制御はオプション
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アライメント方式
双対物２視野顕微鏡による上側マスクパターンと下側マスクパターンまたはウェハ上面同時観察によるマニュアルアライメント。上側マスク位置基準（固定）式。
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アライメント顕微鏡 双眼双対物顕微鏡（標準にて下記3種類の倍率切替可能）
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総合倍率
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92.5
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185
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370
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対物レンズ倍率
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1.85
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接眼レンズ倍率
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10
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拡大レンズ倍率
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5
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10
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20
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視野径 （mm）
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φ1.8
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φ0.9
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φ0.45
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Cマウント結像倍率
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9.25
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18.5
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37
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作動距離WD （mm）
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約 50
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・対物レンズ間距離 8～90ｍｍ
・観察照明 ハロゲンランプ＋ファイバーライトガイドによる同軸落射式照明
ＵＶカットフィルター：イエローフィルターを照明光源に取付け
※観察照明による不要露光防止のため
※上下マスクのアライメント時には下側ランプハウスからの透過光照明も利用可能。
・ＣＣＤカメラ Ｃマウント（標準装備）により接続可能
ＣＣＤカメラ、モニター等はオプション
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マスクアライメントステージ
Ｘ軸（横） ：±３ｍｍ手動（微動・粗動調整ダイアル）
Ｙ軸（縦） ：±３ｍｍ手動（微動・粗動調整ダイアル）
Ｚ軸（上下） ：０～１ｍｍエア駆動方式（コンタクト圧調整レギュレータ付）
：０～４ｍｍ手動メカ駆動方式（微動調整付き）
：ギャップ測長器（オプション）
θ軸 ：±３゜手動（微動）
平行アジャスト ：球面摺動機構真空ロック
Ｎ２パージ ：露光部にＮ２パージ 流量計はオプション
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上側マスク駆動ステージ
駆動方式 ：モーター駆動による前後スライド方式
繰返位置決め精度 ：ＸＹＺ方向位置精度±1.5μm以内／１００回
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顕微鏡移動方式 ：自在スイングアーム方式
Ｚ軸(FOCUS調整) ：±３ｍｍ手動
露光時退避 ：手動
☆オプションにて観察位置移動ＸＹステージが搭載可能
Ｘ軸（横）ストローク ：±１０ｍｍ手動
Ｙ軸（縦）ストローク ：±１０ｍｍ手動
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ウェハ位置決め ：手動
一次露光時 ：手置き
二次露光以降 ：下マスクホルダに設置された二次合わせステージにより試料をクランプ。双眼顕微鏡により上側マスクパターンと試料上面のアライメント後、ウェハ両面の露光。
☆ 上下マスクホルダは使用マスクに合わせたサイズで１セット標準添付します。
☆下マスクホルダと二次合わせステージは一体構造です。
☆片面露光時に必要な試料台は別途オプションとなります。
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装置寸法 ：1460(H)×1060(W)×780(D)mm
装置重量 ：320㎏以下
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ユーティリティ
真空 ：６００ｍｍＨｇ以上 真空ポンプはオプション
ドライエア ：５㎏／ｃ㎡以上
窒素 ：１㎏／ｃ㎡程度（Ｎ２パージが必要な場合のみ）
電源 ：ＡＣ１００Ｖ ３０Ａ
